Trifluoruro de cloro: con la fórmula ClF3, el trifluoruro de cloro es una sustancia interhalógena. La forma más común en que se vende este gas incoloro, letal, cáustico e intensamente reactivo es como un líquido de color amarillo verdoso pálido (presurizado a temperatura ambiente). Debido a su naturaleza corrosiva, el compuesto es de particular interés en procesos de limpieza y grabado sin plasma en la industria de semiconductores, en la producción de combustible para reactores nucleares, históricamente como componente en combustibles para cohetes y en varias otras operaciones industriales.
Hasta unos años más tarde, Alemania ignoró este químico porque era demasiado inflamable. Ha atraído el interés como un arma potencial. Los alemanes consideraron el impacto que tendría una lluvia en los soldados y equipos enemigos considerando todo lo que hace y puede lograr. Se quemarían físicamente en una nube de ácido fluorhídrico y clorhídrico, encendiéndose. Eligieron el nombre poco atractivo de «Sustancia N». (Si fuera por mí, iría con algo como «Chemical X»).
El desarrollo y la producción posteriores se transfirieron al complejo industrial de Falkenhagen. Aquí intentaron producir suficiente de este material para armamento práctico durante muchos años. Inicialmente, se planeó generar 50 toneladas de sustancia N cada mes para su uso en la fusión de hormigón, metal y carne humana.
El trifluoruro de cloro se usa para limpiar cámaras de deposición de vapor químico en la industria de los semiconductores. Tiene la ventaja de permitir retirar el material semiconductor de las paredes de la cámara sin tener que desmontar la cámara. A diferencia de la mayoría de los productos químicos sustitutos utilizados en esta función, no requiere el uso de plasma para la activación, ya que el calor en la cámara es suficiente para que se descomponga e interactúe con el material semiconductor.
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Quantité | 50ml |
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